6月1日-7日，以“創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展，科技引領(lǐng)未來(lái)”為主題的國(guó)家“十二五”科技創(chuàng)新成就展在北京展覽館舉行，清華大學(xué)多項(xiàng)科研成果在展覽中集中亮相。
本次展覽共分“總況、重大專(zhuān)項(xiàng)、基礎(chǔ)研究、戰(zhàn)略高技術(shù)、農(nóng)業(yè)科技、民生科技、區(qū)域創(chuàng)新、大眾創(chuàng)業(yè)萬(wàn)眾創(chuàng)新、創(chuàng)新人才、融入全球創(chuàng)新網(wǎng)絡(luò)”10個(gè)展區(qū)。在“重頭戲”國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)展區(qū)，由清華大學(xué)牽頭實(shí)施的高溫氣冷堆核電站重大專(zhuān)項(xiàng)、重點(diǎn)參與的集成電路專(zhuān)項(xiàng)等重量級(jí)成果同時(shí)參展，成為高顯示度的代表性成果，受到國(guó)家領(lǐng)導(dǎo)人和社會(huì)公眾的重點(diǎn)關(guān)注。
在重大專(zhuān)項(xiàng)展區(qū)，絢麗多彩的3D影像體驗(yàn)區(qū)吸引了不少參觀(guān)者前來(lái)體驗(yàn)。作為02專(zhuān)項(xiàng)最核心任務(wù)光刻機(jī)項(xiàng)目群中唯一通過(guò)正式驗(yàn)收的成果，清華大學(xué)研發(fā)的光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)成功亮相。清華大學(xué)研制的雙工件臺(tái)，技術(shù)性能指標(biāo)滿(mǎn)足65nm步進(jìn)掃描干式光刻機(jī)性能要求，已達(dá)到國(guó)際同類(lèi)光刻機(jī)雙工件臺(tái)的技術(shù)水平。此次成果展上集中展示了清華雙工件臺(tái)系統(tǒng)的核心關(guān)鍵部件——硅片臺(tái)超精密運(yùn)動(dòng)模塊、雙頻激光干涉測(cè)量系統(tǒng)、國(guó)內(nèi)第一個(gè)12英寸PVD E-chuck。
此外，在基礎(chǔ)研究展區(qū)，清華大學(xué)的實(shí)驗(yàn)觀(guān)測(cè)量子反常霍爾效應(yīng)、暗物質(zhì)粒子探測(cè)器和中國(guó)錦屏地下實(shí)驗(yàn)室等科研成果分別展出；在戰(zhàn)略高技術(shù)展區(qū)，清華大學(xué)的靈巧通信試驗(yàn)衛(wèi)星吸引了眾多觀(guān)眾駐足留步。
本次展覽由科技部、國(guó)家發(fā)改委、財(cái)政部和軍委裝備發(fā)展部主辦。（趙姝婧）
